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InP衬底上集成增强型和耗尽型HEMT的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-08-26, 公开日期: 4005
发明人:  戴扬
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Tan XT;  Zheng HZ;  Liu J;  Zhu H;  Xu P;  Li GR;  Yang FH;  Zheng HZ Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Microstruct & Superlattices POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: hzzheng@semi.ac.cn
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高频大功率GaN基HEMT结构材料及器件研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2009
作者:  唐健
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高压开关AlGaN/GaN HEMT材料及器件研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2009
作者:  张明兰
Adobe PDF(3007Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1320/81  |  提交时间：2009/04/13
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Guo LC;  Wang XL;  Xiao HL;  Ran JX;  Wang CM;  Ma ZY;  Luo WJ;  Wang ZG;  Guo LC Chinese Acad Sci Inst Semicond Key Lab Semicond Mat Sci Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: lcguo@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang AL;  Song HP;  Liu XL;  Wei HY;  Guo Y;  Zheng GL;  Jiao CM;  Yang SY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Yang AL Chinese Acad Sci Inst Semicond Key Lab Semicond Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: alyang@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang XL;  Chen TS;  Xiao HL;  Tang J;  Ran JX;  Zhang ML;  Feng C;  Hou QF;  Wei M;  Jiang LJ;  Li JM;  Wang ZG;  Wang XL Chinese Acad Sci Ctr Mat Sci Inst Semicond POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: xlwang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Du Rui;  Dai Yang;  Chen Yanling;  Yang Fuhua
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Guo, LC;  Wang, XL;  Wang, CM;  Mao, HL;  Ran, JX;  Luo, WJ;  Wang, XY;  Wang, BZ;  Fang, CB;  Hu, GX;  Guo, LC, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: lcguo@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Luo, WJ;  Wang, XL;  Xiao, HL;  Wang, CM;  Ran, JX;  Guo, LC;  Li, JP;  Liu, HX;  Chen, YL;  Yang, FH;  Li, JM;  Luo, WJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: yuntianbb@hotmail.com
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