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| 用于氮化物外延生长的纳米级图形衬底的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-02-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 闫发旺; 高海永; 樊中朝; 李晋闽; 曾一平; 王国宏; 张会肖; 王军喜; 张扬
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhao DG ; Jiang DS; Zhu JJ; Guo X; Liu ZS; Zhang SM; Wang YT; Yang H; Zhao, DG, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: dgzhao@red.semi.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhang Tao; Liu Yi-Bao; Yang Bo; Wu He-Xi; Gu Jin-Hu; Yu Jin-Zhong; Wang Qi-Ming
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 王新华; 王晓亮; 冯春; 冉军学; 肖红领; 杨翠柏; 王保柱; 王军喜
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Sun JY (Sun Jiayin); Chen J (Chen Jing); Wang X (Wang Xi); Wang JF (Wang Jianfeng); Liu W (Liu Wei); Zhu JJ (Zhu Jianjun); Yang H (Yang Hui); Sun, JY, No 865,Changning Rd, Shanghai 200050, Peoples R China. 电子邮箱地址: jiayinsun@mail.sim.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Yang H (Yang Hua); Zhu HL (Zhu Hong-Liang); Pan JQ (Pan Jiao-Qing); Feng W (Feng Wen); Xie HY (Xie Hong-Yun); Zhou F (Zhou Fan); An X (An Xin); Bian J (Bian Jing); Zhao LJ (Zhao Ling-Juan); Chen WX (Chen Wei-Xi); Wang W (Wang Wei); Yang, H, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Natl Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: yanghua@red.semi.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 孙佳胤; 陈静; 王曦; 王建峰; 刘卫; 朱建军; 杨辉
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 杨华; 朱洪亮; 潘教青; 冯文; 谢红云; 周帆; 安欣; 边静; 赵玲娟; 陈娓兮; 王圩
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Yin JZ; Du GT; Liu SP; Zhang YT; Yin ZY; Yang HJ; Yang XI; Ma Y; Li WC; Yang SR; Du GT,Jilin Univ,Coll Elect Sci & Engn,State Key Lab Integrated Optoelect,Jiefang Rd 119,Changchun 130023,Peoples R China.
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 李永平; 澜清; 吴正龙; 周大勇; 孔云川; 牛智川; 田强; 杨锡震; 王亚非
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