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用于氮化物外延生长的纳米级图形衬底的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-02-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  闫发旺;  高海永;  樊中朝;  李晋闽;  曾一平;  王国宏;  张会肖;  王军喜;  张扬
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一种利用图形化衬底提高GaN基LED发光效率的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-01-14, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  闫发旺;  高永海;  张扬;  李晋闽;  曾一平;  王国宏;  张会肖
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用于氮化物外延生长的图形蓝宝石衬底的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-12-24, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  闫发旺;  高海永;  张扬;  李晋闽;  曾一平;  王国宏;  张会肖
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高晶体质量氮化物外延生长所用图形衬底的制备方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-10-29, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  张扬;  闫发旺;  高海永;  曾一平;  王国宏;  张会肖;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Luo, WJ;  Wang, XL;  Xiao, HL;  Wang, CM;  Ran, JX;  Guo, LC;  Li, JP;  Liu, HX;  Chen, YL;  Yang, FH;  Li, JM;  Luo, WJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: yuntianbb@hotmail.com
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  林郭强;  曾一平;  王晓亮;  刘宏新
Adobe PDF(907Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：912/301  |  提交时间：2010/11/23
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang BZ;  Wang XL;  Wang XY;  Guo LC;  Wang XH;  Xiao HL;  Liu HX;  Wang, BZ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: wangbz@semi.ac.cn
Adobe PDF(727Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1078/248  |  提交时间：2010/03/29
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu Z;  Wang JX;  Wang XL;  Hu GX;  Guo LC;  Liu HX;  Li JP;  Li JM;  Zeng YP;  Wang, JX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: jxwang@red.semi.ac.cn
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Study on surface morphology of GaN growth by MOCVD on GaN/Si(111) template 会议论文
JOURNAL OF RARE EARTHS, Beijing, PEOPLES R CHINA, OCT 16-19, 2005
作者:  Liu, Z;  Wang, JX;  Wang, XL;  Hu, GX;  Guo, LC;  Liu, HX;  Li, JP;  Li, JM;  Zeng, YP;  Wang, JX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jxwang@red.semi.ac.cn
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Surface Morphology  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  王保柱;  王晓亮;  王晓燕;  王新华;  郭伦春;  肖红领;  王军喜;  刘宏新;  曾一平;  李晋闽
Adobe PDF(410Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1072/307  |  提交时间：2010/11/23