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| 具有氮化铪薄中间层的SOI型复合可协变层衬底 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-08-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 杨少延; 陈涌海; 李成明 ; 范海波; 王占国
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| 具有金属铪薄中间层的SOI型复合可协变层衬底 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-08-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 杨少延; 陈涌海; 李成明; 范海波; 王占国
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| 具有超薄碳化硅中间层的硅基可协变衬底及制备方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-08-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 杨少延; 杨霏; 李成明; 范海波; 陈涌海; 刘志凯; 王占国
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| 利用可协变衬底制备生长氧化锌薄膜材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-08-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 杨少延; 陈涌海; 李成明; 范海波; 王占国
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| 碳化硅衬底氮化镓高电子迁移率晶体管及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-07-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 王晓亮; 胡国新; 马志勇; 冉学军; 王翠敏; 肖红领; 王军喜; 李建平; 曾一平; 李晋闽
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| 以原位垂直超晶格为模板定位生长量子线或点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-01-10, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 王元立; 吴巨; 金鹏; 叶小玲; 张春玲; 黄秀颀; 陈涌海; 王占国
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng); Lin T (Lin Tie); Shang LY (Shang Li-Yan); Huang ZM (Huang Zhi-Ming); Cui LJ (Cui Li-Jie); Li DL (Li Dong-Lin); Gao HL (Gao Hong-Ling); Zeng YP (Zeng Yi-Pine); Guo SL (Guo Shao-Ling); Gui YS (Gui Yong-Sheng); Chu JH (Chu Jun-Hao); Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.en
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng); Lin T (Lin Tie); Shang LY (Shang Li-Yan); Huang ZM (Huang Zhi-Ming); Zhu B (Zhu Bo); Cui LJ (Cui Li-Jie); Gao HL (Gao Hong-Ling); Li DL (Li Dong-Lin); Guo SL (Guo Shao-Ling); Gui YS (Gui Yong-Sheng); Chu JH (Chu Jun-Hao); Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 刘宗顺; 赵德刚; 朱建军; 张书明; 段俐宏; 王海; 史永生; 刘文宝; 张爽; 江德生; 杨辉
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 于丽娟; 赵洪泉; 杜云; 李敬; 黄永箴
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