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气源分子束外延生长锗硅异质结双极晶体管材料掺杂方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-10-16, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  黄大定;  李建平;  高斐;  林燕霞;  孙殿照;  刘金平;  朱世荣;  孔梅影
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Temperature dependence of photoluminescence of flat and undulated SiGe/Si multiple quantum wells 会议论文
INTERNATIONAL JOURNAL OF MODERN PHYSICS B, 16 (28-29), XIAN, PEOPLES R CHINA, JUN 10-14, 2002
作者:  Cheng BW;  Zhang JG;  Zuo YH;  Mao RW;  Huang CJ;  Luo LP;  Yao F;  Wang QM;  Cheng BW Chinese Acad Sci Inst Semicond Beijing 100083 Peoples R China.
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Si-ge Alloys  Growth  Layers  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cheng BW;  Zhang JG;  Zuo YH;  Mao RW;  Huang CJ;  Luo LP;  Yao F;  Wang QM;  Cheng BW,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Beijing 100083,Peoples R China.
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