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双异质外延SOI材料Si/γ-Al_3O_3/Si的外延生长 期刊论文
半导体学报, 2003, 卷号: 24, 期号: 12, 页码: 1289-1292
Authors:  谭利文;  王俊;  王启元;  郁元桓;  邓惠芳;  王建华;  林兰英
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单晶硅中氢与辐照缺陷的相互作用 期刊论文
半导体学报, 2002, 卷号: 23, 期号: 1, 页码: 43-48
Authors:  王启元;  林兰英;  王建华;  邓惠芳;  谭利文;  王俊;  蔡田海;  郁元桓
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热退火γ-Al_2O_3/Si异质结构薄膜质量改进 期刊论文
半导体学报, 2002, 卷号: 23, 期号: 11, 页码: 1178-1181
Authors:  谭利文;  王俊;  王启元;  郁元桓;  刘忠立;  邓惠芳;  王建华;  林兰英
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CMOS集成电路用Φ150-200mm外延硅材料 期刊论文
半导体学报, 2001, 卷号: 22, 期号: 12, 页码: 1538
Authors:  王启元;  林兰英;  何自强;  龚义元;  蔡田海;  郁元桓;  何龙珠;  高秀峰;  王建华;  邓惠芳
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用于先进 CMOS电路的 150 mm硅外延片外延生长(英文) 期刊论文
半导体学报, 2000, 卷号: 21, 期号: 5, 页码: 426
Authors:  王启元;  蔡田海;  郁元桓;  林兰英
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薄层SOS薄膜材料外延生长及其器件应用(英文) 期刊论文
半导体学报, 2000, 卷号: 21, 期号: 6, 页码: 521
Authors:  王启元;  聂纪平;  刘忠立;  郁元桓
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Ramping热退火直拉重掺锑硅衬底片的增强氧沉淀 期刊论文
半导体学报, 1999, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 458
Authors:  王启元;  王俊;  韩秀峰;  邓惠芳;  王建华;  昝育德;  蔡田海;  郁元桓;  林兰英
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利用改进的固相外延技术改善CMOS/SOS器件的特性 期刊论文
半导体学报, 1999, 卷号: 20, 期号: 5, 页码: 433
Authors:  刘忠立;  和致经;  于芳;  张永刚;  郁元桓
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借助硅片减薄重掺硅间隙氧含量低温(10K)红外测量 期刊论文
半导体学报, 1997, 卷号: 18, 期号: 8, 页码: 587
Authors:  王启元;  王俊;  韩秀峰;  邓惠芳;  王建华;  昝育德;  蔡田海;  郁元桓;  林兰英
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抗辐射加固CMOS/SOS集成电路研制 成果
1995
Accomplishers:  刘忠立;  和致经;  郁元桓;  于芳;  杨钦英
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抗辐射