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具有超薄碳化硅中间层的硅基可协变衬底及制备方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-08-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  杨少延;  杨霏;  李成明;  范海波;  陈涌海;  刘志凯;  王占国
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碳化硅衬底氮化镓高电子迁移率晶体管及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-07-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  马志勇;  冉学军;  王翠敏;  肖红领;  王军喜;  李建平;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng);  Lin T (Lin Tie);  Shang LY (Shang Li-Yan);  Huang ZM (Huang Zhi-Ming);  Cui LJ (Cui Li-Jie);  Li DL (Li Dong-Lin);  Gao HL (Gao Hong-Ling);  Zeng YP (Zeng Yi-Pine);  Guo SL (Guo Shao-Ling);  Gui YS (Gui Yong-Sheng);  Chu JH (Chu Jun-Hao);  Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.en
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng);  Lin T (Lin Tie);  Shang LY (Shang Li-Yan);  Huang ZM (Huang Zhi-Ming);  Zhu B (Zhu Bo);  Cui LJ (Cui Li-Jie);  Gao HL (Gao Hong-Ling);  Li DL (Li Dong-Lin);  Guo SL (Guo Shao-Ling);  Gui YS (Gui Yong-Sheng);  Chu JH (Chu Jun-Hao);  Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  周文政;  林铁;  商丽燕;  黄志明;  朱博;  崔利杰;  高宏玲;  李东临;  郭少令;  桂永胜;  褚君浩
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  周文政;  林铁;  商丽燕;  黄志明;  崔利杰;  李东临;  高宏玲;  曾一平;  郭少令;  桂永胜;  褚君浩
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