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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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作者
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文献类型
期刊论文 [12]
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专利 [1]
发表日期
2007 [17]
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发表日期:2007
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在硅衬底上生长无裂纹氮化镓薄膜的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-05-23, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
刘喆
;
李晋闽
;
王军喜
;
王晓亮
;
王启元
;
刘宏新
;
王俊
;
曾一平
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提交时间:2009/06/11
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期刊论文
作者:
Wei TB
;
Duan RF
;
Wang JX
;
Li JM
;
Huo ZQ
;
Ma P
;
Liu Z
;
Zeng YP
;
Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tbwei@semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
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期刊论文
作者:
Liu Z (Liu Zhe)
;
Wang XL (Wang Xiaoliang)
;
Wang JX (Wang Junxi)
;
Hu GX (Hu Guoxin)
;
Guo LC (Guo Lunchun)
;
Li JP (Li Jianping)
;
Li JM (Li Jinmin)
;
Zeng YP (Zeng Yiping)
;
Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xlwang@red.semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
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期刊论文
作者:
Zhao, YM
;
Sun, GS
;
Liu, XF
;
Li, JY
;
Zhao, WS
;
Wang, L
;
Luo, MC
;
Li, JM
;
Zhao, YM, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: ymzhao@semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/08
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期刊论文
作者:
Wei TB
;
Ma P
;
Duan RF
;
Wang JX
;
Li JM
;
Liu Z
;
Zeng YP
;
Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tbwei@semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
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期刊论文
作者:
Liu Z (Liu Zhe)
;
Wang XL (Wang Xiao-Liang)
;
Wang JX (Wang Jun-Xi)
;
Hu GX (Hu Guo-Xin)
;
Guo LC (Guo Lun-Chun)
;
Li JM (Li Jin-Min)
;
Liu, Z, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Semicond Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: liuzhe@red.semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
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期刊论文
作者:
Zhao YM (Zhao Yong-Mei)
;
Sun GS (Sun Guo-Sheng)
;
Li JY (Li Jia-Ye)
;
Liu XF (Liu Xing-Fang)
;
Wang L (Wang Lei)
;
Zhao WS (Zhao Wan-Shun)
;
Li JM (Li Jin-Min)
;
Zhao, YM, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Semicond Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: ymzhao@semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
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期刊论文
作者:
Wei TB (Wei Tongbo)
;
Wang JX (Wang Junxi)
;
Li JM (Li Jinmin)
;
Liu Z (Liu Zhe)
;
Duan RF (Duan Ruifei)
;
Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tbwei@mail.semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
Micro-raman investigation of defects in a 4H-SiC homoepilayer
会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2006丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Newcastle upon Tyne, ENGLAND, SEP, 2006
作者:
Liu, XF (Liu, X. F.)
;
Sun, GS (Sun, G. S.)
;
Li, JM (Li, J. M.)
;
Zhao, YM (Zhao, Y. M.)
;
Li, JY (Li, J. Y.)
;
Wang, L (Wang, L.)
;
Zhao, WS (Zhao, W. S.)
;
Luo, MC (Luo, M. C.)
;
Zeng, YP (Zeng, Y. P.)
;
Liu, XF, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Semicond Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China.
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提交时间:2010/03/29
Micro-raman
4h-sic
Defects
3c-inclusions
Triangle-shaped Inclusion
Epitaxial Layers
Silicon-carbide
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Wei TB
;
Duan RF
;
Wang JX
;
Li JM
;
Huo ZQ
;
Ma P
;
Liu Z
;
Zeng YP
;
Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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提交时间:2010/03/29