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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang, HL;  Zhou, XL;  Yu, HY;  Mi, JP;  Wang, JQ;  Bian, J;  Ding, Y;  Chen, WX;  Wang, W;  Pan, JQ
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou HY;  Qu SC;  Jin P;  Xu B;  Ye XL;  Liu JP;  Wang ZG;  Qu, SC, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. qsc@semi.ac
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Study of molecular-beam epitaxy growth on patterned GaAs (1 0 0) substrates by masked indium ion implantation 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 318 (1): 572-575, Beijing, PEOPLES R CHINA, AUG 08-13, 2010
作者:  阎Zhou HY (Zhou Huiying);  Qu SC (Qu Shengchun);  Jin P (Jin Peng);  Xu B (Xu Bo);  Ye XL (Ye Xiaoling);  Liu JP (Liu Junpeng);  Wang ZG (Wang Zhanguo)
Adobe PDF(584Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：2615/490  |  提交时间：2011/07/17
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cui M;  Zhou TF;  Wang MR;  Huang J;  Huang HJ;  Zhang JP;  Xu K;  Yang H;  Cui, M (reprint author), Chinese Acad Sci, Suzhou Inst Nanotech & Nanobion, Suzhou 215123, Peoples R China, tfzhou2007@sinano.ac.cn;  kxu2006@sinano.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou HY (Zhou Huiying);  Qu SC (Qu Shengchun);  Liao SZ (Liao Shuzhi);  Zhang FS (Zhang Fasheng);  Liu JP (Liu Junpeng);  Wang ZG (Wang Zhanguo)
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一种可用于硅基集成的HEMT器件及其制备方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-06-19
发明人:  米俊萍;  周旭亮;  于红艳;  李梦珂;  李士颜;  潘教青
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在Si基上制备InP基HEMT的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-06-05
发明人:  李士颜;  周旭亮;  于鸿艳;  李梦珂;  米俊萍;  潘教青
Adobe PDF(488Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：831/93  |  提交时间：2014/11/17
高质量低表面粗糙度的硅基砷化镓材料的制备方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-09-18
发明人:  周旭亮;  于红艳;  米俊萍;  潘教青;  王圩
Adobe PDF(327Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：866/66  |  提交时间：2014/11/17
基于ART结构的硅基沟槽内生长GaAs材料的NMOS器件 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-06-26
发明人:  李梦珂;  周旭亮;  于红艳;  李士颜;  米俊萍;  潘教青
Adobe PDF(431Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：819/84  |  提交时间：2014/12/25
ART结构沟槽内生长GaAs材料HEMT器件的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-22
发明人:  李梦珂;  周旭亮;  于红艳;  李士颜;  米俊萍;  潘教青
Adobe PDF(491Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：936/83  |  提交时间：2014/11/24