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4H -SiC 基 SiO 2和 Al 2O3栅介质层的研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2016
作者:  田丽欣
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锑化物高电子迁移率晶体管的材料与器件研究 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2012
作者:  李彦波
Adobe PDF(2537Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1608/76  |  提交时间：2012/06/18
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Sun LL (Sun Lili);  Liu C (Liu Chao);  Li JM (Li Jianming);  Wang JX (Wang Junxi);  Yan FW (Yan Fawang);  Zeng YP (Zeng Yiping);  Li JM (Li Jinmin);  Sun, LL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: lilisun@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  周文政;  代娴;  林铁;  商丽燕;  崔利杰;  曾一平;  褚君浩
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一种碳化硅同质PIN微结构材料及其制作方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910237845.1, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  孙国胜;  刘兴昉;  王雷;  赵万顺;  杨挺;  吴海雷;  闫果果;  曾一平;  李晋闽
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连续型HTCVD法碳化硅晶体生长装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102304763A, 公开日期: 2012-08-29, 2012-08-29, 2012-08-29
发明人:  刘兴昉;  郑柳;  董林;  闫果果;  王雷;  赵万顺;  孙国胜;  曾一平;  李晋闽
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HTCVD法碳化硅晶体生长装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102304698A, 公开日期: 2012-08-29, 2012-08-29, 2012-08-29
发明人:  刘兴昉;  董林;  郑柳;  闫果果;  王雷;  赵万顺;  孙国胜;  曾一平;  李晋闽
Adobe PDF(621Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：2523/513  |  提交时间：2012/08/29