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以二氧化硅为掩模定位生长量子点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-12-03, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  任芸芸;  徐波;  周惠英;  刘明;  李志刚;  王占国
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一种在砷化镓衬底上外延生长锑化镓的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  郝瑞亭;  周志强;  任正伟;  徐应强;  牛智川
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一种在砷化镓衬底上外延生长锑化镓的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-03-26, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  郝瑞亭;  周志强;  任正伟;  徐应强;  牛智川
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一种在砷化镓衬底上外延生长锑化镓的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-03-26, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  郝瑞亭;  周志强;  任正伟;  徐应强;  牛智川
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yu, SM;  Yan, F;  Zhang, XW;  You, JB;  Wu, PY;  Lu, JM;  Xu, QF;  Xia, XW;  Ma, GL;  Yan, F, Suzhou Univ, Sch Chem & Chem Engn, Key Lab Organ Synth Jiangsu Prov, Suzhou 215123, Peoples R China. 电子邮箱地址: fyan@suda.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhu, BL;  Zhao, XZ;  Xu, S;  Su, FH;  Li, GH;  Wu, XG;  Wu, J;  Wu, R;  Liu, J;  Zhu, BL, Wuhan Univ Sci & Technol, Key Lab Hubei Province Ceram, Wuhan 430081, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhubailin97@hotmail.com
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu, XQ;  Liu, XL;  Han, XX;  Yuan, HR;  Wang, J;  Guo, Y;  Song, HP;  Zheng, GL;  Wei, HY;  Yang, SY;  Zhu, QS;  Wang, ZG;  Xu, XQ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xlliu@red.semi.ac.cn;  qszhu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu, Q;  Li, JB;  Li, SS;  Xia, JB;  Xu, Q, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jbli@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang, BR;  Sun, BQ;  Ji, Y;  Dou, XM;  Xu, ZY;  Wang, ZM;  Salamo, GJ;  Wang, BR, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: brwang04@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu, HZ;  Yan, Q;  Xu, HZ, Beihang Univ, Dept Phys, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: hzxu@buaa.edu.cn
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