Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
| 一种提高光栅结构均匀度的电子束曝光方法 | |
| 王莉娟; 喻颖; 査国伟; 徐建星; 倪海桥; 牛智川 | |
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
| 公开日期 | 2014-02-12 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 半导体物理 |
| 申请日期 | 2013-10-25 |
| 申请号 | CN201310510519.X |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25491 |
| 专题 | 半导体超晶格国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王莉娟,喻颖,査国伟,等. 一种提高光栅结构均匀度的电子束曝光方法. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 一种提高光栅结构均匀度的电子束曝光方法.（961KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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