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Ti薄膜与AlN陶瓷的界面反应 期刊论文
物理学报, 1998, 卷号: 47, 期号: 1, 页码: 75
Authors:  王佑祥;  岳瑞峰;  陈春华
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AlN陶瓷基板在空气中的热氧化行为探讨 期刊论文
硅酸盐学报, 1998, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 565
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华
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Ti/莫来石陶瓷界面反应的俄歇电子能谱研究 期刊论文
西安交通大学学报, 1998, 卷号: 32, 期号: 4, 页码: 9
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华;  徐传骧
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二次离子质谱分析的应用基础研究 成果
1997
Accomplishers:  王佑祥;  查良镇;  姜志雄;  陈春华
Favorite  |  View/Download:753/0  |  Submit date:2010/04/13
离子质谱  
Ti和AlN陶瓷的界面反应 期刊论文
西安交通大学学报, 1997, 卷号: 31, 期号: 8, 页码: 1
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华;  徐传骧
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四极SIMS对AlxGa1-xAs中Si的定量分析 期刊论文
半导体学报, 1996, 卷号: 17, 期号: 6, 页码: 421
Authors:  姜志雄;  查良镇;  王佑祥;  陈春华;  陈新
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Ni?莫来石界面反应的XPS研究 期刊论文
清华大学学报. 自然科学版, 1996, 卷号: 36, 期号: 增刊, 页码: 75
Authors:  陈新;  王佑祥;  谢侃;  陈春华;  刘振祥;  刘志平;  高尚通
Favorite  |  View/Download:687/0  |  Submit date:2010/11/23
GaAs中氧的SIMS相对灵敏度因子的测定 期刊论文
半导体学报, 1995, 卷号: 16, 期号: 10, 页码: 747
Authors:  陈春华;  陈新;  王佑祥;  姜志雄
Adobe PDF(432Kb)  |  Favorite  |  View/Download:616/197  |  Submit date:2010/11/23
砷化镓在O+2与Cs+离子轰击下二次离子发射的研究 期刊论文
半导体学报, 1995, 卷号: 16, 期号: 2, 页码: 125
Authors:  陈新;  陈春华;  王佑祥
Adobe PDF(189Kb)  |  Favorite  |  View/Download:628/216  |  Submit date:2010/11/23
用四极型SIMS对砷化镓中硅定量分析的研究 期刊论文
清华大学学报. 自然科学版, 1994, 卷号: 34, 期号: 4, 页码: 32
Authors:  姜志雄;  查良镇;  陈新;  陈春华;  王佑祥
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