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Ti薄膜与AlN陶瓷的界面反应 期刊论文
物理学报, 1998, 卷号: 47, 期号: 1, 页码: 75
Authors:  王佑祥;  岳瑞峰;  陈春华
Adobe PDF(255Kb)  |  Favorite  |  View/Download:753/291  |  Submit date:2010/11/23
AlN陶瓷基板在空气中的热氧化行为探讨 期刊论文
硅酸盐学报, 1998, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 565
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华
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Ti/莫来石陶瓷界面反应的俄歇电子能谱研究 期刊论文
西安交通大学学报, 1998, 卷号: 32, 期号: 4, 页码: 9
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华;  徐传骧
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过渡金属和稀土金属硅化物研究 成果
1997
Accomplishers:  许振嘉;  陈维德;  丁孙安;  何杰;  王佑祥
Favorite  |  View/Download:790/0  |  Submit date:2010/04/13
金属硅化物  
二次离子质谱分析的应用基础研究 成果
1997
Accomplishers:  王佑祥;  查良镇;  姜志雄;  陈春华
Favorite  |  View/Download:758/0  |  Submit date:2010/04/13
离子质谱  
Ti和AlN陶瓷的界面反应 期刊论文
西安交通大学学报, 1997, 卷号: 31, 期号: 8, 页码: 1
Authors:  岳瑞峰;  王佑祥;  陈春华;  徐传骧
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四极SIMS对AlxGa1-xAs中Si的定量分析 期刊论文
半导体学报, 1996, 卷号: 17, 期号: 6, 页码: 421
Authors:  姜志雄;  查良镇;  王佑祥;  陈春华;  陈新
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Ti-AlN快速退火的界面 期刊论文
清华大学学报. 自然科学版, 1996, 卷号: 36, 期号: 增刊, 页码: 52
Authors:  王佑祥;  陈新;  陶琨
Favorite  |  View/Download:549/0  |  Submit date:2010/11/23
Ni?莫来石界面反应的XPS研究 期刊论文
清华大学学报. 自然科学版, 1996, 卷号: 36, 期号: 增刊, 页码: 75
Authors:  陈新;  王佑祥;  谢侃;  陈春华;  刘振祥;  刘志平;  高尚通
Favorite  |  View/Download:690/0  |  Submit date:2010/11/23
大剂量氧注入硅中的再分布理论及其快速计算 期刊论文
半导体学报, 1996, 卷号: 17, 期号: 9, 页码: 698
Authors:  奚雪梅;  赵清太;  张兴;  李映雪;  王阳元;  陈新;  王佑祥
Adobe PDF(482Kb)  |  Favorite  |  View/Download:880/258  |  Submit date:2010/11/23