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| 硅基光子集成的器件及制作方法 专利 专利类型: 发明, 申请日期: 2003-11-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11 Inventors: 黄昌俊; 邓晓清; 成步文; 王红杰; 杨沁清; 余金中; 胡雄伟; 王启明
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| 硅基二氧化硅阵列波导光栅的优化设计及其偏振性能的数值模拟 学位论文 , 北京: 中国科学院半导体研究所, 2003 Authors: 邓晓清
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| 采用TEOS源PECVD生长氧化硅厚膜的方法 专利 专利类型: 发明, 申请日期: 2002-03-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11 Inventors: 雷红兵; 王红杰; 胡雄伟; 邓晓清; 王启明
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| 硅基二氧化硅波导的应力和偏振相关性的数值分析 期刊论文 半导体学报, 2002, 卷号: 23, 期号: 11, 页码: 1196-1200 Authors: 邓晓清; 杨沁清; 王红杰; 胡雄伟; 王启明
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| 硅基二氧化硅波导的双折射效应补偿理论分析 期刊论文 半导体学报, 2002, 卷号: 23, 期号: 12, 页码: 1303-1307 Authors: 邓晓清; 杨沁清; 王红杰; 胡雄伟; 王启明
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| 采用TEOS和H_2O源PECVD方法生长氧化硅厚膜(英文) 期刊论文 半导体学报, 2001, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 543 Authors: 雷红兵; 王红杰; 邓晓清; 杨沁清; 胡雄伟; 王启明; 廖左升; 杨基南
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| 反应蒸发制备nmSi-SiO_x发光薄膜 期刊论文 真空科学与技术学报, 1999, 卷号: 19, 期号: 5, 页码: 13 Authors: 张仕国; 樊瑞新; 邓晓清; 袁骏; 陈伟
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