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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Li B (Li Bin); Yang HW (Yang Huai-Wei); Gui Q (Gui Qiang); Yang XH (Yang Xiao-Hong); Wang J (Wang Jie); Wang XP (Wang Xiu-Ping); Liu SQ (Liu Shao-Qing); Han Q (Han Qin)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Yin Wei-Hong; Han Qin; Yang Xiao-Hong
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Liang, Ji-Ran; Hu, Ming; Kan, Qiang; Hou, Shun-Bao; Liang, Xiu-Qin; Chen, Hong-Da
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Liang, Ji-Ran; Hu, Ming; Kan, Qiang; Chen, Tao; Liang, Xiu-Qin; Chen, Hong-Da; Liang, J.-R.(liang_jiran@tju.edu.cn)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 梁继然 ; 胡明; 阚强; 陈涛; 梁秀琴; 陈弘达
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 梁继然; 胡明; 梁秀琴; 阚强; 陈涛; 陈弘达
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhu B (Zhu Bin); Han Q (Han Qin); Yang XH (Yang Xiao-Hong); Ni HQ (Ni Hai-Qiao); He JF (He Ji-Fang); Niu ZC (Niu Zhi-Chuan); Wang X (Wang Xin); Wang XP (Wang Xiu-Ping); Wang J (Wang Jie); Zhu, B, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail Address: zhubin@semi.ac.cn
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| 在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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| 一种提高电子束曝光效率的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤; 王杰; 刘少卿
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| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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