| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 |
| 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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| 公开日期 | 2011-08-30
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明
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| 摘要 | 本发明公开了一种用于电子束光刻胶PMMA的显影液，该显影液是异丙醇、甲醇和去离子水的混合液，其中异丙醇、甲醇和去离子水的体积比为7∶2∶1。本发明同时公开了一种用于电子束光刻胶PMMA的显影液的配置方法，该方法包括：将异丙醇、甲醇和去离子水以一定的体积比混合；将异丙醇、甲醇和去离子水的混合液在常温下静置一段时间，使得溶液混合均匀。利用本发明，相比目前通用的定影液IPA，不需要IPA或者其他定影液定影就能很好的控制线条宽度以及粗糙度，能够显著降低成本。 |
| 部门归属 | 集成光电子学国家重点实验室
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| 专利号 | CN201010101998.6
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN201010101998.6
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| 专利代理人 | 周国城
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21965
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| 专题 | 集成光电子学国家重点实验室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王秀平,杨晓红,韩勤. 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法. CN201010101998.6.
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