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| 无权访问的条目 期刊论文 作者: Liang, Ji-Ran; Hu, Ming; Kan, Qiang; Chen, Tao; Liang, Xiu-Qin; Chen, Hong-Da; Liang, J.-R.(liang_jiran@tju.edu.cn) Adobe PDF(1511Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:845/196  |  提交时间:2012/06/13 |
| 无权访问的条目 期刊论文 作者: 梁继然; 胡明; 阚强; 陈涛; 梁秀琴; 陈弘达 Adobe PDF(531Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:729/184  |  提交时间:2012/07/17 |
| 无权访问的条目 期刊论文 作者: 梁继然; 胡明; 梁秀琴; 阚强; 陈涛; 陈弘达 Adobe PDF(609Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1060/392  |  提交时间:2012/07/17 |
| 在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤 Adobe PDF(2472Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1175/115  |  提交时间:2011/08/30 |
| 一种提高电子束曝光效率的方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤; 王杰; 刘少卿 Adobe PDF(1194Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1103/123  |  提交时间:2011/08/30 |
| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤 Adobe PDF(2013Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:2578/125  |  提交时间:2011/08/30 |