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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cui CX;  Chen YH;  Jin P;  Xu B;  Ren YY;  Zhao C;  Wang ZG;  Chen, YH, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: yhchen@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang XL (Wang X. L.);  Zhao DG (Zhao D. G.);  Chen J (Chen J.);  Li XY (Li X. Y.);  Gong HM (Gong H. M.);  Yang H (Yang H.);  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: WXL@mail.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Huang Y (Huang Y.);  Wang H (Wang H.);  Sun Q (Sun Q.);  Chen J (Chen J.);  Li DY (Li D. Y.);  Zhang JC (Zhang J. C.);  Wang JF (Wang J. F.);  Wang YT (Wang Y. T.);  Yang H (Yang H.);  Wang, H, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: wangh@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Kang TT (Kang Ting-Ting);  Liu X (Liu Xianglin);  Zhang RQ (Zhang Ri Q.);  Hu WG (Hu Wei G.);  Cong G (Cong Guangwei);  Zhao FA (Zhao Feng-Ai);  Zhu Q (Zhu Qinsheng);  Kang, TT, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: ktt219@163.com
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Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition 会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2005丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Pittsburgh, PA, SEP 18-23, 2005
作者:  Sun, GS (Sun, Guosheng);  Ning, J (Ning, Jin);  Gong, QC (Gong, Quancheng);  Gao, X (Gao, Xin);  Wang, L (Wang, Lei);  Liu, XF (Liu, Xingfang);  Zeng, YP (Zeng, Yiping);  Li, JM (Li, Jinmin);  Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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Homoepitaxial Growth  Low-pressure Hot-wall Cvd  Structural And Optical Characteristics  Intentional Doping  Schottky Barrier Diodes  
Optical and structural properties of ZnO films grown on Si(100) substrates by MOCVD - art. no. 60290G 会议论文
ICO20 MATERIALS AND NANOSTRUCTURES丛书标题: PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE), Changchun, PEOPLES R CHINA, AUG 21-26, 2005
作者:  Shen, WJ;  Duan, Y;  Wang, J;  Wang, QY;  Zeng, YP;  Shen, WJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Ctr Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China.
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Zno  Mocvd  Thermal Annealing  Photoluminescence  X-ray Diffraction  Atomic Force Microscopy  Pulsed-laser Deposition  Thin-films  Photoluminescence  Mechanisms  Epitaxy  Cvd  Si  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Fang CB;  Wang XL;  Hu GX;  Wang JX;  Wang CM;  Li JM;  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: xlwang@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yu J;  Kasper E;  Oehme M;  Kasper, E, Univ Stuttgart, Inst Halbleitertech, Pfaffenwaldring 47, D-70569 Stuttgart, Germany. E-mail: kasper@iht.uni-stuttgart.de
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu LF;  Chen NF;  Wang Y;  Yin ZG;  Yang F;  Chai CL;  Zhang X;  Liu, LF, Peking Univ, Inst Microelect, Beijing 100871, Peoples R China. E-mail: lfliu@ime.pku.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang CL;  Tang L;  Wang YL;  Wang ZG;  Xu B;  Zhang, CL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: zhangchl@red.semi.ac.cn
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