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VGF-Ge单晶衬底完整性、复合缺陷及其对多结电池性能的影响 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2015
作者:  曹可慰
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锗  单晶  垂直梯度凝固  多结电池  热施主  
Si衬底上GaN基材料MOCVD生长及HEMT性能分析 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2011
作者:  魏萌
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou WZ (Zhou W. Z.);  Lin T (Lin T.);  Shang LY (Shang L. Y.);  Yu G (Yu G.);  Gao KH (Gao K. H.);  Zhou YM (Zhou Y. M.);  Wei LM (Wei L. M.);  Cui LJ (Cui L. J.);  Zeng YP (Zeng Y. P.);  Guo SL (Guo S. L.);  Chu JH (Chu J. H.);  Zhou, WZ, E China Normal Univ, Minist Educ, Key Lab Polar Mat & Devices, Shanghai 200062, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhouwz@mail.sitp.ac.cn;  jhchu@mail.sitp.ac.cn
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在大失配衬底上生长表面无裂纹的GaN薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010128376.2, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  魏萌;  王晓亮;  潘旭;  李建平;  刘宏新;  王翠梅;  肖红领
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大失配硅基衬底锑化物高电子迁移率晶体管及制造方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102324436A, 公开日期: 2012-08-29, 2012-08-29, 2012-08-29
发明人:  张雨溦;  张杨;  曾一平
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