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Strain-induced morphological evolution and preferential interdiffusion in SiGe epitaxial film on Si(100) during high-temperature annealing 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 201, CANNES, FRANCE, AUG 31-SEP 04, 1998
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Liu XF;  Li JP;  Huang DD;  Li LX;  Sun DZ;  Kong MY Chinese Acad Sci Inst Semicond Ctr Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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Stranski-krastanow Growth  Quantum Dots  Relaxation  Inas  
Influence of crystal perfection on the reverse leakage current of the SiGe Si p-n heterojunction diodes 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 201, CANNES, FRANCE, AUG 31-SEP 04, 1998
作者:  Liu XF;  Liu JP;  Li JP;  Wang YT;  Li LY;  Sun DZ;  Kong MY;  Lin LY;  Liu XF Chinese Acad Sci Inst Semicond Mat Ctr Beijing 100083 Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Liu XF;  Li JP;  Huang DD;  Li LX;  Sun DZ;  Kong MY,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu XF;  Liu JP;  Li JP;  Wang YT;  Li LY;  Sun DZ;  Kong MY;  Lin LY;  Liu XF,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Mat Ctr,Beijing 100083,Peoples R China.
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