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提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管; 提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管
马平; 王军喜; 魏学成; 曾一平; 李晋闽
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2012-09-09 ; 2012-09-09 ; 2012-09-09
授权国家中国
专利类型发明
摘要 一种提高电子注入效率的氮化镓系发光二极管,其包括:一衬底;一氮化镓成核层制作在衬底上;一缓冲层制作在氮化镓成核层上;一n型接触层制作在缓冲层上,在该n型接触层的上面的一侧形成一台面;一下多周期n型电子耦合层制作在n型接触层上台面另一侧的上面;一下隧穿势垒层制作在下多周期n型电子耦合层上;一上多周期n型电子耦合层制作在下隧穿势垒层上;一上隧穿势垒层制作在上多周期n型电子耦合层上;一多周期活性发光层制作在上隧穿势垒层上;一负电极制作在n型接触层的台面上;一p型电子阻挡层制作在多周期活性发光层上;一p型接触层制作在p型电子阻挡层上;一正电极制作在p型接触层上,形成氮化镓系发光二极管的结构。
部门归属中科院半导体照明研发中心
专利号CN102185056A
语种中文
专利状态公开
申请号 CN201110115323.1
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23514
专题中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
马平,王军喜,魏学成,等. 提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管, 提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管. CN102185056A.
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提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管.p(533KB) 限制开放使用许可请求全文
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