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半导体晶片精密化学机械抛光剂 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-10-03, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  朱蓉辉;  惠峰;  卜俊鹏;  郑红军;  赵冀
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  汪辉;  朱建军;  王国宏;  C Bruynseraede;  K Maex
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  俊鹏;  郑红军;  赵冀;  朱蓉辉;  尹玉华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  黄昌俊;  左玉华;  成步文;  毛容伟;  李传波;  余金中;  王启明
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  郑红军;  卜俊鹏;  何宏家;  吴让元;  曹福年;  白玉珂;  惠峰
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  卜俊鹏;  郑红军;  何宏家;  吴让元
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