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Strain-induced morphological evolution and preferential interdiffusion in SiGe epitaxial film on Si(100) during high-temperature annealing 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 201, CANNES, FRANCE, AUG 31-SEP 04, 1998
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Liu XF;  Li JP;  Huang DD;  Li LX;  Sun DZ;  Kong MY Chinese Acad Sci Inst Semicond Ctr Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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Stranski-krastanow Growth  Quantum Dots  Relaxation  Inas  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Liu XF;  Li JP;  Huang DD;  Li LX;  Sun DZ;  Kong MY,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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New method for the growth of highly uniform quantum dots 会议论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 43-4, LISBON, PORTUGAL, MAY 19-21, 1997
作者:  Pan D;  Zeng YP;  Kong MY;  Pan D Chinese Acad Sci Inst Semicond Mat Ctr POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. 电子邮箱地址: dongpan@red.senu.ac.cn
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Self-formed Quantum Dot  Stranski-krastanow Growth Mode  Superlattice  Molecular-beam Epitaxy  Ingaas  Gaas  Dislocations  Multilayers  Defects  Strain  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Pan D;  Zeng YP;  Kong MY;  Pan D,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Mat Ctr,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China. 电子邮箱地址: dongpan@red.senu.ac.cn
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