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一种绝缘体上的硅基槽缝式光波导耦合器及其制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-06-10, 公开日期: 3997
发明人:  刘 艳;  余金中
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利用准分子激光退火制作SiGe或Ge量子点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-03-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  韩根全;  曾玉刚;  余金中
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利用UHV/CVD低温生长SiGe材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-03-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  韩根全;  曾玉刚;  余金中
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用于氮化物外延生长的纳米级图形衬底的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-02-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  闫发旺;  高海永;  樊中朝;  李晋闽;  曾一平;  王国宏;  张会肖;  王军喜;  张扬
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  陈媛媛;  李艳萍;  余金中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  陈媛媛;  余金中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  徐海华;  余金中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  周亮;  余金中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘端阳;  夏建白;  张亚中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  廖凌宏;  周志文;  李成;  陈松岩;  赖虹凯;  余金中;  王启明
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