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在锗衬底上生长无反相畴砷化镓薄膜的分子束外延方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人:  王鹏飞;  吴东海;  吴兵朋;  熊永华;  詹 峰;  黄社松;  倪海桥;  牛智川
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Deng HX (Deng Hui-Xiong);  Li JB (Li Jingbo);  Li SS (Li Shu-Shen);  Peng HW (Peng Haowei);  Xia JB (Xia Jian-Bai);  Wang LW (Wang Lin-Wang);  Wei SH (Wei Su-Huai);  Deng, HX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. jbli@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Misuraca J (Misuraca Jennifer);  Trbovic J (Trbovic Jelena);  Lu J (Lu Jun);  Zhao JH (Zhao Jianhua);  Ohno Y (Ohno Yuzo);  Ohno H (Ohno Hideo);  Xiong P (Xiong Peng);  von Molnar S (von Molnar Stephan)
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