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在硅衬底上生长无裂纹氮化镓薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-05-23, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  刘喆;  李晋闽;  王军喜;  王晓亮;  王启元;  刘宏新;  王俊;  曾一平
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang BZ;  Wang XL;  Wang XY;  Guo LC;  Wang XH;  Xiao HL;  Liu HX;  Wang, BZ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: wangbz@semi.ac.cn
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High responsivity ultraviolet photodetector based on crack-free GaN on Si (111) 会议论文
Physica Status Solidi C - Current Topics in Solid State Physics丛书标题: PHYSICA STATUS SOLIDI C-CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, Vancouver, CANADA, AUG 13-17, 2006
作者:  Wang, XY (Wang, Xiaoyan);  Wang, XL (Wang, Xiaoliang);  Wang, BZ (Wang, Baozhu);  Xiao, HL (Xiao, Hongling);  Liu, HX (Liu, Hongxin);  Wang, JX (Wang, Junxi);  Zeng, YP (Zeng, Yiping);  Li, JM (Li, Jinmin);  Wang, XY, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.
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Buffer Layer  Stress  Photodiodes  Reduction  Detectors  Sapphire  Epitaxy  Growth