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在锗衬底上生长无反相畴砷化镓薄膜的分子束外延方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人:  王鹏飞;  吴东海;  吴兵朋;  熊永华;  詹 峰;  黄社松;  倪海桥;  牛智川
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Ding F (Ding Fei);  Ji HX (Ji Hengxing);  Chen YH (Chen Yonghai);  Herklotz A (Herklotz Andreas);  Dorr K (Doerr Kathrin);  Mei YF (Mei Yongfeng);  Rastelli A (Rastelli Armando);  Schmidt OG (Schmidt Oliver G.)
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