中文版 | English

在结果中检索

SEMI OpenIR

浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助

限定条件    
已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
采用TEOS源PECVD生长氧化硅厚膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-03-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  雷红兵;  王红杰;  胡雄伟;  邓晓清;  王启明
Adobe PDF(356Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1276/216  |  提交时间：2009/06/11
Stress analysis of silica-based arrayed waveguide grating by a finite element method 会议论文
MATERIALS, DEVICES, AND SYSTEMS FOR DISPLAY AND LIGHTING, 4918, SHANGHAI, PEOPLES R CHINA, OCT 14-18, 2002
作者:  Deng XQ;  Yang QQ;  Wang HJ;  Hu XW;  Wang QM;  Deng XQ Chinese Acad Sci Inst Semicond R&D Ctr Optoelect Beijing 100083 Peoples R China.
Adobe PDF(256Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1273/269  |  提交时间：2010/10/29
Finite Element Method  Stress  Silica Optical Waveguide On silicOn  Birefringence  Optical Wave-guides  Difference Method  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  邓晓清;  杨沁清;  王红杰;  胡雄伟;  王启明
Adobe PDF(285Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1089/424  |  提交时间：2010/11/23
无权访问的条目 期刊论文
作者:  邓晓清;  杨沁清;  王红杰;  胡雄伟;  王启明
Adobe PDF(222Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1121/338  |  提交时间：2010/11/23