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| 在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤 Adobe PDF(2472Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1202/115  |  提交时间:2011/08/30 |
| 一种改进非晶硅/微晶硅叠层太阳电池性能的方法 专利 专利类型: 发明, 公开日期: 2012-09-09, 2012-09-09, 2012-09-09 发明人: 姚文杰; 曾湘波; 彭文博; 刘石勇; 谢小兵; 王超; 杨萍 Adobe PDF(538Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1402/246  |  提交时间:2012/09/09 |
| 一种提高电子束曝光效率的方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤; 王杰; 刘少卿 Adobe PDF(1194Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1114/123  |  提交时间:2011/08/30 |
| 一种制作可调谐共振腔增强型探测器中间P型电极的方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010263067.6, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王杰; 韩勤; 杨晓红; 王秀平; 刘少卿 Adobe PDF(2883Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1169/93  |  提交时间:2011/08/30 |
| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30 发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤 Adobe PDF(2013Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:2643/125  |  提交时间:2011/08/30 |