Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
具有金属铪薄中间层的SOI型复合可协变层衬底 | |
杨少延; 陈涌海; 李成明; 范海波; 王占国 | |
2007-08-15 | |
公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
专利类型 | 发明 |
申请日期 | 2006-02-09 |
语种 | 中文 |
申请号 | 200610003529 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3941 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨少延,陈涌海,李成明,等. 具有金属铪薄中间层的SOI型复合可协变层衬底[P]. 2007-08-15. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
200610003529.pdf(931KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[杨少延]的文章 |
[陈涌海]的文章 |
[李成明]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[杨少延]的文章 |
[陈涌海]的文章 |
[李成明]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[杨少延]的文章 |
[陈涌海]的文章 |
[李成明]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论