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在硅衬底上生长无裂纹氮化镓薄膜的方法 | |
刘喆; 李晋闽; 王军喜; 王晓亮; 王启元; 刘宏新; 王俊; 曾一平 | |
2007-05-23 | |
公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
专利类型 | 发明 |
申请日期 | 2005-11-17 |
语种 | 中文 |
申请号 | 200510086899 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3693 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘喆,李晋闽,王军喜,等. 在硅衬底上生长无裂纹氮化镓薄膜的方法[P]. 2007-05-23. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
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