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自支撑氮化镓衬底的制作方法; 自支撑氮化镓衬底的制作方法
孙波; 伊晓燕; 刘志强; 汪炼成; 郭恩卿; 王国宏
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2012-09-09 ; 2012-09-09 ; 2012-09-09
授权国家中国
专利类型发明
摘要 本发明提供一种自支撑氮化镓衬底的制作方法,其中包括如下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在衬底上生长一层薄膜层;步骤3:在薄膜层上生长一层纳米薄膜,得到一基片;步骤4:对基片进行退火,退火后使基片上的纳米薄膜形成纳米颗粒,形成源衬底;步骤5:在源衬底的纳米薄膜上生长出自支撑衬底;步骤6:将源衬底与自支撑衬底通过机械方法实现分离,完成制作。
部门归属中科院半导体照明研发中心
专利号CN102208340A
语种中文
专利状态公开
申请号 CN201110134149.5
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23509
专题中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
孙波,伊晓燕,刘志强,等. 自支撑氮化镓衬底的制作方法, 自支撑氮化镓衬底的制作方法. CN102208340A.
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