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硅纳米线晶体管量子输运特性及其传感器应用研究 学位论文
, 中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2022
作者:  郭仰岩
Adobe PDF(7696Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:243/2  |  提交时间:2022/07/26
硅纳米线晶体管量子输运特性及其传感器应用研究 学位论文
, 中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2022
作者:  郭仰岩
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  杜彦东;  韩伟华;  颜伟;  张严波;  熊莹;  张仁平;  杨富华
Adobe PDF(531Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:3233/1392  |  提交时间:2012/07/17
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang Jiayong;  Wang Xiaofeng;  Wang Xiaodong;  Ma Huili;  Cheng Kaifang;  Fan Zhongchao;  Li Yan;  Ji An;  Yang Fuhua
Adobe PDF(1126Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1693/477  |  提交时间:2010/06/07
无权访问的条目 期刊论文
作者:  李越强;  刘雯;  王晓东;  陈燕凌;  杨富华;  曾一平
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SiO2/SiN双层钝化层T型栅AlGaN/GaN HEMT及制作方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102437182A, 公开日期: 2012-09-07, 2012-05-02, 2012-09-07
发明人:  杜彦东;  韩伟华;  颜伟;  张严波;  杨富华
Adobe PDF(344Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1702/383  |  提交时间:2012/09/07
利用光子束超衍射技术制备半导体T型栅电极的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102157361A, 公开日期: 2012-09-07, 2011-08-17, 2012-09-07
发明人:  颜伟;  杜彦东;  韩伟华;  杨富华
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采用光刻和干法刻蚀制作倾斜侧壁二氧化硅结构的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910081983.5, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  唐龙娟;  杨晋玲;  解婧;  李艳;  杨富华
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以光刻胶为掩膜对二氧化硅进行深刻蚀的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910081225.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  李艳;  杨富华;  裴为华
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采用13.56MHz射频功率源淀积氮化硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910081224.9, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  李艳;  杨富华;  唐龙娟;  朱银芳
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