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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Anli Xu;   Peng He;   Caichao Ye;   Zhiduo Liu;   Bingli Gu;   Bo Gao;   Yongqiang Li;   Hui Dong;   Da Chen;   Gang Wang;   Siwei Yang;   Guqiao Ding
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zheng GL (Zheng Gaolin);  Wang J (Wang Jun);  Liu XL (Liu Xianglin);  Yang AL (Yang Anli);  Song HP (Song Huaping);  Guo Y (Guo Yan);  Wei HY (Wei Hongyuan);  Jiao CM (Jiao Chunmei);  Yang SY (Yang Shaoyan);  Zhu QS (Zhu Qinsheng);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Zheng, GL, 35 Tsinghua E Rd, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhenggl@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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ZnMgO合金材料的MOCVD生长及物性研究 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2010
作者:  杨安丽
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Znmgo  Mocvd  纳米结构  异质结  价带差  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Song HP (Song Huaping);  Guo Y (Guo Yan);  Yang A (Yang Anli);  Wei HY (Wei Hongyuan);  Xu XQ (Xu Xiaoqing);  Liu JM (Liu Jianming);  Yang SY (Yang Shaoyan);  Liu XL (Liu Xianglin);  Zhu QS (Zhu Qinsheng);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Song, HP, InstSemicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: songhp@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn;  qszhu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  王振华;  杨安丽;  刘祥林;  魏鸿源;  焦春美;  朱勤生;  杨少延;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  CAI Fangfang;  WEI Hongyan;  FAN Haibo;  YANG Anli;  ZHANG Panfeng;  LIU Xianglin
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掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910237095.8, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  宋华平;  杨安丽;  郭严;  魏鸿源;  刘祥林;  朱勤生;  杨少延;  王占国
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利用非极性ZnO缓冲层生长非极性InN薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010157517.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  郑高林;  杨安丽;  宋华平;  郭严;  魏鸿源;  刘祥林;  朱勤生;  杨少延;  王占国
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生长氧化锌薄膜材料的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910079800.6, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  王振华;  刘祥林;  杨少延;  杨安丽
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