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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Li YF;  Lin F;  Xu B;  Liu FQ;  Ye WL;  Ding D;  Wang ZG;  Li YF,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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用于半导体光放大器的宽增益谱量子点材料结构 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910081987.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  刘王来;  叶小玲;  徐波;  王占国
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