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可以修整抛光晶片平整度的抛光头 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-09-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  朱蓉辉;  惠峰;  卜俊峰;  郑红军;  赵冀
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  李德尧;  张书明;  王建峰;  陈俊;  陈良惠;  种明;  朱建军;  赵德刚;  刘宗顺;  杨辉;  梁骏吾
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