SEMI OpenIR  > 中科院半导体照明研发中心
栅极与源漏极异面的GaN基HEMT的结构及其制作方法
程哲; 张韵; 张连
专利权人中国科学院半导体所
公开日期2016-09-12
授权国家中国
专利类型发明
学科领域半导体器件
申请日期2015-08-25
申请号CN201510524897.2
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27439
专题中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
程哲,张韵,张连. 栅极与源漏极异面的GaN基HEMT的结构及其制作方法.
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栅极与源漏极异面的GaN基HEMT的结构(354KB) 限制开放使用许可请求全文
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