| 高密度高均匀InGaN量子点结构及生长方法 | |
| 刘炜; 赵德刚; 陈平; 刘宗顺; 江德生 | |
| Rights Holder | 中国科学院半导体所 |
| Date Available | 2016-09-02 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明 |
| Subject Area | 光电子学 |
| Application Date | 2014-08-20 |
| Application Number | CN201410412107.7 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27338 |
| Collection | 光电子研究发展中心 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 刘炜,赵德刚,陈平,等. 高密度高均匀InGaN量子点结构及生长方法. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 高密度高均匀InGaN量子点结构及生长方（434KB） | 限制开放 | License | Application Full Text | |||
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