| 利用相对易腐蚀的金属制备另一种金属图形的剥离方法 | |
| 杨健; 司朝伟; 韩国威; 宁瑾; 赵永梅; 梁秀琴 | |
| 专利权人 | 中国科学院半导体所 |
| 公开日期 | 2016-08-30 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 微电子学 |
| 申请日期 | 2014-09-26 |
| 申请号 | CN201410500353.8 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27302 |
| 专题 | 半导体集成技术工程研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨健,司朝伟,韩国威,等. 利用相对易腐蚀的金属制备另一种金属图形的剥离方法. |
| 条目包含的文件 | ||||||
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| 利用相对易腐蚀的金属制备另一种金属图形的（382KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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