在含镓氮化物上生长石墨烯薄膜的方法 | |
赵云; 王刚; 孙连峰; 魏同波; 段瑞飞; 伊晓燕; 李晋闽 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2014 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
学科领域 | 半导体器件 |
申请日期 | 2013-09-17 |
申请号 | CN201310424531.9 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25649 |
专题 | 中科院半导体照明研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵云,王刚,孙连峰,等. 在含镓氮化物上生长石墨烯薄膜的方法. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
在含镓氮化物上生长石墨烯薄膜的方法.pd(404KB) | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 |
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