生长半极性GaN厚膜的方法 | |
羊建坤; 魏同波; 霍自强; 张勇辉; 胡强; 段瑞飞; 王军喜 | |
Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
Date Available | 2014-03-19 |
Country | 中国 |
Subtype | 发明 |
Subject Area | 半导体器件 |
Application Date | 2013-12-31 |
Application Number | CN201310750779.4 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25394 |
Collection | 中科院半导体照明研发中心 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 羊建坤,魏同波,霍自强,等. 生长半极性GaN厚膜的方法. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
生长半极性GaN厚膜的方法.pdf(1673KB) | 限制开放 | License | Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment