基于硅基赝砷化镓衬底的850nm激光器的制备方法
周旭亮; 于红艳; 潘教青; 赵玲娟; 王圩
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2012-07-11
授权国家中国
专利类型发明
学科领域半导体材料
申请日期2012-03-06
申请号CN201210057292.3
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25341
专题中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
周旭亮,于红艳,潘教青,等. 基于硅基赝砷化镓衬底的850nm激光器的制备方法.
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