| 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法; 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法; 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法; 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法 | |
| 王晓亮; 彭恩超; 王翠梅; 肖红领; 冯春; 姜丽娟; 陈竑 | |
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
| 公开日期 | 2013-02-13 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 半导体材料 |
| 申请日期 | 2012-11-19 |
| 申请号 | CN201210467084.0 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25213 |
| 专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王晓亮,彭恩超,王翠梅,等. 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法, 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法, 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法, 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT及制作方法. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 铝镓氮做高阻层的双异质结氮化镓基HEMT（535KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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