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高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法; 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法
刘安金; 陈微; 周文君; 付非亚; 王宇飞; 郑婉华
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2012-09-09 ; 2012-09-09 ; 2012-09-09
Country中国
Subtype发明
Abstract 本发明提供一种高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法,包括如下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在该衬底上依次生长材料层、介质层和金属层,在介质层和金属层界面处能够激发表面等离子体模式;步骤3:采用感应耦合等离子体刻蚀的方法或者剥离技术,依次将金属层、介质层和材料层刻蚀,形成周期性的条形光栅结构,完成器件的制作。
metadata_83纳米光电子实验室
Patent NumberCN102109625A
Language中文
Status公开
Application Number CN201110049965.6
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23466
Collection纳米光电子实验室
Recommended Citation
GB/T 7714
刘安金,陈微,周文君,等. 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法, 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法. CN102109625A.
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