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紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法; 紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法
郑凯; 赵懿昊; 李全宁; 熊聪
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2012-09-09 ; 2012-09-09 ; 2012-09-09
授权国家中国
专利类型发明
摘要 本发明公开了一种紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法。该辅助检测装置在紫外激光全息光刻系统中增加了一套可见性的激光光路,在确定可见激光波长和紫外激光波长的关系后,通过观察可见激光的干涉条纹来对紫外激光干涉条纹周期进行检测,从而简化了在紫外光全息光刻系统中检测紫外激光干涉条纹的过程,缩短了全息光刻工艺的周期,并降低了光刻工艺的成本。
部门归属光电子器件国家工程中心
申请日期2011-01-05
专利号CN102141736A
语种中文
专利状态公开
申请号 CN201110001219.X
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23400
专题光电子器件国家工程中心
推荐引用方式
GB/T 7714
郑凯,赵懿昊,李全宁,等. 紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法, 紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法. CN102141736A.
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紫外激光干涉条纹的辅助检测装置及方法.p(872KB) 限制开放使用许可请求全文
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