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基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法; 基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法
毛旭; 杨晋玲; 杨富华
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2012-09-07 ; 2011-07-20 ; 2012-09-07
Country中国
Subtype发明
Abstract 本发明公开了一种基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法,通过选用富锡Sn合金成分Sn=54%-71%,设计金锡厚度分别小于2.1μm和0.7μm,在一定压强、温度和时间内进行了金锡合金键合,形成了以具有高维氏硬度的AuSn2相(即ε相)为主的中间层,实现了低成本、高键合强度的圆片级低温封装方法。键合温度在140-310℃范围内,可实现高达20-64MPa的键合强度。这一低成本、高键合强度的圆片级低温封装方法可应用于任意基片上器件的封装。
metadata_83半导体集成技术工程研究中心
Application Date2010-12-23
Patent NumberCN102130026A
Language中文
Status公开
Application Number CN201010601975.1
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23352
Collection半导体集成技术工程研究中心
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GB/T 7714
毛旭,杨晋玲,杨富华. 基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法, 基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法. CN102130026A.
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