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用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头; 用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头
冉军学; 胡强; 梁勇; 胡国新; 王军喜; 曾一平; 李晋闽
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2012-08-29 ; 2012-08-29 ; 2012-08-29
Country中国
Subtype发明
Abstract 一种用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头,包括:一混气室,该混气室为一桶状,在混气室的上面或侧面连通有多个进气通道;一冷却匀气喷头,固接于混气室的下面。其中冷却匀气喷头包括:一上盖板、一下盖板和侧壁,该上盖板、一下盖板和侧壁构成密封的空间,该上盖板和下盖板之间贯通有多个进气通道,该进气通道的周围及上盖板和下盖板之间为冷却通道。
metadata_83半导体材料科学中心
Application Date2011-12-29
Patent NumberCN102492937A
Language中文
Status公开
Application Number CN201110451659.5
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23308
Collection半导体材料科学中心
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GB/T 7714
冉军学,胡强,梁勇,等. 用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头, 用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头. CN102492937A.
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