| 利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法 | |
宋国峰; 张宇; 汪卫敏; 陈熙
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| Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
| Date Available | 2011-08-31 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明 |
| Abstract | 一种利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤1：在激光器的出光面上制作一层金属薄膜；步骤2：在金属薄膜上涂敷一层液态阻蚀剂；步骤3：把压印模板上的纳米图案压在液态阻蚀剂上；步骤4：采用压印技术，使液态阻蚀剂固化；步骤5：脱模，把纳米图案转移到阻蚀剂上；步骤6：等离子体刻蚀多余阻蚀剂，在金属薄膜表面形成由阻蚀剂构成的纳米图案；步骤7：反应离子刻蚀，把纳米图案转移到金属薄膜上；步骤8：去除剩余的阻蚀剂，完成制备。 |
| metadata_83 | 纳米光电子实验室 |
| Patent Number | CN200910079801.0 |
| Language | 中文 |
| Status | 公开 |
| Application Number | CN200910079801.0 |
| Patent Agent | 汤保平 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22457 |
| Collection | 纳米光电子实验室 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 宋国峰,张宇,汪卫敏,等. 利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法. CN200910079801.0. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| CN200910079801.0.pdf（474KB） | 限制开放 | -- | Application Full Text | |||
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