利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法 | |
宋国峰; 张宇; 汪卫敏; 陈熙![]() | |
Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
Date Available | 2011-08-31 |
Country | 中国 |
Subtype | 发明 |
Abstract | 一种利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:步骤1:在激光器的出光面上制作一层金属薄膜;步骤2:在金属薄膜上涂敷一层液态阻蚀剂;步骤3:把压印模板上的纳米图案压在液态阻蚀剂上;步骤4:采用压印技术,使液态阻蚀剂固化;步骤5:脱模,把纳米图案转移到阻蚀剂上;步骤6:等离子体刻蚀多余阻蚀剂,在金属薄膜表面形成由阻蚀剂构成的纳米图案;步骤7:反应离子刻蚀,把纳米图案转移到金属薄膜上;步骤8:去除剩余的阻蚀剂,完成制备。 |
metadata_83 | 纳米光电子实验室 |
Patent Number | CN200910079801.0 |
Language | 中文 |
Status | 公开 |
Application Number | CN200910079801.0 |
Patent Agent | 汤保平 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22457 |
Collection | 纳米光电子实验室 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 宋国峰,张宇,汪卫敏,等. 利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法. CN200910079801.0. |
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