| p-i-n型InGaN量子点太阳能电池结构及其制作方法 | |
| 张小宾; 王晓亮; 肖红领; 杨翠柏; 冉军学; 王翠梅; 李晋闽 | |
| Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
| Date Available | 2011-08-31 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明 |
| Abstract | 本发明涉及无机光电技术领域，公开了一种p-i-n型InGaN量子点太阳能电池结构及其制作方法，该p-i-n型InGaN量子点太阳能电池结构包括衬底、低温氮化镓成核层、非有意掺杂氮化镓缓冲层、n型掺杂InxGa1-xN层、非掺杂i层InyGa1-yN量子点结构和p型掺杂InxGa1-xN层。本发明采用InxGa1-xN三元合金材料和量子点结构，利用该合金带宽可调节的优点，结合量子点超晶格结构的优势，通过严格控制生长条件，得到高质量的以InyGa1-yN量子点为i层和InxGa1-xN为势垒层的p-i-n结构材料，从而可在理论上达到63％的极限转换效率。 |
| metadata_83 | 半导体材料科学中心 |
| Patent Number | CN200810240351.4 |
| Language | 中文 |
| Status | 公开 |
| Application Number | CN200810240351.4 |
| Patent Agent | 周国城 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22333 |
| Collection | 半导体材料科学中心 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 张小宾,王晓亮,肖红领,等. p-i-n型InGaN量子点太阳能电池结构及其制作方法. CN200810240351.4. |
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| CN200810240351.4.pdf（624KB） | 限制开放 | -- | Application Full Text | |||
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